Електронний каталог науково-технічної бібліотеки Вінницького національного технічного університету
нитрид кремния
Документи:
- Влияние карбоната лития на структурообразование керамики на основе Si(3)N(4) [Текст] / Т. С. Бартницкая, О. Н. Григорьев, Т. В. Дубовик [et al.] // Порошковая металлургия. – 2002. – № 3-4. – 96-101.
- Исследование процессов фазообразования в системах Li-N [Текст] / Т. С. Бартницкая, О. Н. Григорьев, Л. А. крушинская [et al.] // Порошковая металлургия. – 2002. – № 7-8. – 88-92.
- Исследование влияния структуры плазмохимического нитрида кремния на маскирующие свойства [Текст] / В. И. Гармаш, В. И. Егоркин, В. Е. Земляков [и др.] // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2014. – № 5. – С. 33-38.
- Давидчук, Н. К. Структурообразование и механические свойства композиционной керамики SIC(C) - SI3N4, спеченной под высоким давлением [Текст] / Н. К. Давидчук, Н. Ф. Гадзыра, Г. Г. Гнесин // Порошковая металлургия. – 2001. – № 11-12. – 100-103.
- Структура и состав слоев нитрида кремния, полученных в планарно-индукционном реакторе [Текст] / Ф. Н. Дульцев, В. В. Васильев, И. О. Парм, А. П. Соловьев // Изв.ВУЗов.Приборостроение. – 2004. – № 9. – 34-38.
- Особенности синтеза композиций в режиме горения [Текст] / В. В. Закоржевский, И. П. Боровинская, Л. А. Чевыкалова, И. Ю. Келина // Порошковая металлургия. – 2007. – № 1/2. – 10-14.
- Получение изделий различной формы из тугоплавких соединений на основе Si3N4 методом электроразрядного спекания [Текст] / М. В. Замула, А. В. Деревянко, В. Г. Колесниченко [и др.] // Порошковая металлургия. – 2015. – № 1-2. – С. 12-21.
- Кириленко, Е. В. Зависимость электросопротивления горячепрессованных композитов Si_3N_4-ZrC от их состава [Текст] / Е. В. Кириленко, А. И. Дерий, В. Я. Петровський // Порошковая металлургия. – 2009. – № 9-10. – С. 88-99.
- Исследование электрофизических свойств МДП-структур с пленками нитрида кремния, легированными редкоземельнымиэлементами [Текст] / А. А. Ковалевский, А. С. Строгова, Н. С. Строгова, Н. В. Бабушкина // Микроэлектроника. – 2014. – Т. 43, № 4. – С. 250-255.
- Кошелев, А. Ю. Устойчивый к погрешностям изготовления интегральный поляризационный двигатель на основе каскада интерферометров Маха-Цендера [Текст] / А. Ю. Кошелев, А. Ю. Гольцов // Квантовая электроника. – 2013. – Т. 43, № 12. – С. 1154-1158.
- Криль, Я. А. Кінетика ущільнення і формування мікроструктури в кераміці на основі нітриду кремнію при спіканні [Текст] / Я. А. Криль, І. Д. Гнилиця // Порошковая металлургия. – 2002. – № 7-8. – 29-34.
- Процессы фазообразования при азотировании дисилицида ванадия [Текст] / Л. А. Крушинская, Г. Н. Макаренко, А. В. Котко, И. В. Уварова // Порошковая металлургия. – 2015. – № 5-6. – С. 3-10.
- Курзина, И. А. Реакция глубокого окисления метана на катализаторе Pt/SіN4 [Текст] / И. А. Курзина, Сантос Айрес Ф.Ж. Кадет, Ж. К. Бертолини // Теоретическая и экспериментальная химия. – 2004. – 40, № 4. – 233-237.
- Манжа, М. Н. Влияние конструктивных факторов реакторов пониженного давления на неоднородность свойств осаждаемых слоев [Текст] / М. Н. Манжа // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2004. – № 2. – 23-28.
- Милешко, Л. П. Механизм электрохимического формирования SiO2 из структур Si3N4-Si [Текст] / Л. П. Милешко // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2007. – № 1. – 3-10.
- Милешко, Л. П. Особенности процессов гальваностатического анодирования алюминия, кремния и пленок натрида кремния [Текст] / Л. П. Милешко // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2007. – № 5. – 88-90.
- Наливайко, Ю. О. Получение тонких пленок Si_3N_4 при пониженном давлении на пластинах диаметром до 200 мм [Текст] / Ю. О. Наливайко, А. С. Турцевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2012. – № 6. – С. 34-39.
- Зависимость механических напряжений в пленках нитрида кремния от режимов плазмохимического осаждения [Текст] / А. В. Новак, В. Р. Новак, А. А. Дедкова, Е. Э. Гусев // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2017. – Т. 22, № 2. – С. 138-146.
- Рубцевич, И. И. Оптимизация конструкции мембранных датчиков [Текст] / И. И. Рубцевич, В. Б. Высоцкий, Н. С. Ковальчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2008. – № 4. – С. 16-19.
- Исследование свойств пленок нитрида и оксида кремния, полученных методом плазмохимического осаждения на кремниевую подложку [Текст] / И. И. Рубцевич, Я. А. Соловьев, В. Б. Высоцкий [и др.] // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2011. – № 4. – С. 29-32.
- Модифицирование поверхности нановолокон нитрида кремния частицами нитрида титана [Текст] / Н. И. Тищенко, В. Г. Колесниченко, Н. В. Дубовицкая, П. М. Силенко // Порошковая металлургия. – 2009. – № 11-12. – С. 21-29.
- Чернякова, И. В. Микроструктура и электропроводность композитов Si_3N_4 - TiO_2 ( TiH_2 ). охлажденных с различной скоростью после горячего прессования [Текст] / И. В. Чернякова, С. Н. Здольник, В. Я. Петровский // Порошковая металлургия. – 2010. – № 1-2. – С. 124-137.
- Резистивные свойства спеченной керамической композиции Si(3)N(4)-SiC [Текст] / Л. А. Шипилова, В. Я. Петровский, С. И. Чугунова, Е. В. Кириленко // Порошковая металлургия. – 2005. – № 9-10. – 44-49.
- Нитрид кремния в электронике [Текст] / Белый В.И., Васильева Л.Л., Гриценко В.А.; Отв. ред. А.В. Ржанов. – Новосибирск : Наука, 1982. – 180 с.
|