| |
Зависимость механических напряжений в пленках нитрида кремния от режимов плазмохимического осаждения [Текст] / А. В. Новак, В. Р. Новак, А. А. Дедкова, Е. Э. Гусев
// Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2017. – Т. 22, № 2. – С. 138-146.
Пленки плазмохимического нитрида кремния SiN_x, получаемые из газов моносилана SiH_4 и аммиака NH_3, широко используются в микроэлектронике, микро- и наноэлектромеханических системах. Для многих применений важными характеристиками являются остаточные механические напряжения и состав пленок. Свойства пленок SiN_x, в частности механические напряжения и состав, существенно зависят от условий получения: соотношения расходов реагирующих газов, состава газовой смеси, мощности и частоты генератора плазмы, температуры и давления при осаждении. |
