| |
Наливайко, Ю. О.
Получение тонких пленок Si_3N_4 при пониженном давлении на пластинах диаметром до 200 мм [Текст] / Ю. О. Наливайко, А. С. Турцевич
// Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2012. – № 6. – С. 34-39.
Исследовано влияние режимов осаждения нитрида кремния на параметры полученных пленок. |
