• Класифікатори
• імплантація, имплантация

імплантація іонна, имплантация ионная

Документи:

• Влияние ионной имплантации и УФ-облучения на зарядовое состояние структуры Si-SiO2 [Текст] / А. Ю. Аскинази, А. П. Барабан, Л. В. Милоглядова [et al.] // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2006. – № 3. – 7-13.
• Барабан, А. П. Зарядовое состояние центров люминесценции в структурах Si-SiO2, подвергнутых последовательной имплантации ионами кремния и углерода [Текст] / А. П. Барабан, Ю. В. Петров // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2007. – № 3. – 18-22.
• Автоэмиссия из наноструктур на основе карбида кремния и влияние на нее образующихся субоксидных SiO_x-покрытий. II. Эмиссионные свойства SiC-нанопротрузий [Текст] / П. Г. Бобовников, А. С. Ермаков, И. В. Матюшкин [и др.] // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2013. – № 5. – С. 3-13.
• Модификация поверхности позитивного фоторезиста при ионной имплантации [Текст] / Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, М. Г. Лукашевич [и др.] // Микроэлектроника. – 2015. – Т. 44, № 6. – С. 448-452.
• Гончаров, В. В. Дослідження тепловіддачі від металофольгового електронагрівача з імплантованими іонами Cr, Ti, Mo та Zr [Текст] / В. В. Гончаров // Энерготехнологии и ресурсосбережение. – 2014. – № 3. – С. 35-40.
• Формирование наноразмерного слоя каталитически активных металлов на поверхности нержавеющей стали методом ионной имплантации [Текст] / В. А. Зажигалов, В. В. Гончаров, И. В. Бачерикова [и др.] // Теоретическая и экспериментальная химия. – 2018. – Т. 54, № 2. – С. 117-125.
• Технология создания легированных бором слоев на алмазе [Текст] / К. Н. Зяблюк, А. Ю. Митягин, Н. Х. Талипов [и др.] // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2012. – № 5. – С. 39-43.
• Ефекти розведеного магнітного напівпровідника в карбіді кремнію з імплантованими іонами Mn I Fe [Текст] / А. В. Комаров, А. В. Лось, С. М. Рябченко, С. М. Романенко // Український фізичний журнал. – 2011. – Т. 56, № 10. – С. 1056-1067.
• Высокоинтенсивная имплантация ионов алюминия в титан [Текст] / И. А. Курзина, И. А. Божко, М. П. Калашников [et al.] // Металлофизика и новейшие технологии. – 2004. – 26, № 12. – 1645-1660.
• Структурные изменения в пористых кристаллах после ионной имплантации [Текст] / И. В. Литвинчук, И. М. Фодчук, З. Свянтек [et al.] // Металлофизика и новейшие технологии. – 2004. – 26, № 8. – 1069-1080.
• Макарець, М. В. Новий метод розрахунку розподілу імплантованих іонів. 1. Алгоритм та семиінваріанти [Текст] / М. В. Макарець, С. М. Сторчака // Український фізичний журнал. – 2001. – № 4. – 486-494.
• Структурні перетворення в La, Ga-заміщених ФҐП, обумовлені дією лазерного опромінення [Текст] / Б. К. Остафійчук, І. М. Будзуляк, І. П. Яремій, Л. С. Яблонь // Фізика і хімія твердого тіла. – 2008. – 9, № 1. – 19-23.
• Трансформація магнітної мікроструктури приповерхневих шарів епітаксійних плівок залізо-ітрієвого гранату після імплантації іонами фосфору та відпалу [Текст] / Б. К. Остафійчук, В. М. Пилипів, В. О. Коцюбинський [et al.] // Фізика і хімія твердого тіла. – 2007. – 8, № 2. – 273-280.
• Остафійчук, Б. К. Особливості радіаційного дефектоутворення в приповерхневих шарах епітаксійних плівок залізо-ітрієвого гранату при імплантації іонами фосфору [Текст] / Б. К. Остафійчук, В. М. Пилипів, В. Д. Федорів // Фізика і хімія твердого тіла. – 2007. – 8, № 1. – 41-47.
• Оптичні властивості іонно-імплантованої системи тонка молібденова плівка - ніобат літію [Текст] / Л. В. Поперенко, М. І. Клюй, В. С. Стащук, В. О. Лисюк // Український фізичний журнал. – 2002. – № 1. – 76-79.
• Семеренко, М. М. Моделювання процесу іонної імплантації [Текст] / М. М. Семеренко, Н. Л. Білоконь // Вісник ВПІ. – 1999. – № 5. – С. 105-107.
• Таланін, І. Є. Дослідження трансформації ростових мікродефектів у кремній після іонної імплантації [Текст] / І. Є. Таланін, Д. І. Левінзон, В. І. Таланін // Український фізичний журнал. – 2000. – № 8. – 963-966.
• Ташатов, А. К. Применение низкоэнергетической ионной имплантации для создания контактов к ультратонким пленкам [Текст] / А. К. Ташатов // Український фізичний журнал. – 2001. – № 3. – 383-385.
• Цуканов, А. В. Оптимизация свойств алмазных структур с NV-центрами [Текст] / А. В. Цуканов // Микроэлектроника. – 2015. – Т. 44, № 5. – С. 323-337.
• Черный, А. А. Моделирование ион-атомных взаимодействий при корпускулярной бомбардировке поверхности стальных образцов [Текст] / А. А. Черный, С. В. Мащенко, В. В. Гончаров // Проблемы машиностроения. – 2014. – Т. 17, № 4. – С. 59-64.
• Шокина, Д. И. Влияние химически активной среды отжига на структурные дефекты кремния [Текст] / Д. И. Шокина, В. Н. Кукин, И. В. Вернер // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2003. – № 5. – 28-31.
• Оборудование ионной имплантации [Текст] / В.В.Симонов, Л.А.Корнилов, А.В.Шашелев, Е.В.Шокин. – М. : Радио и связь, 1988. – 183с : ил. – ISBN 5-256-00007-1.
• Фундаментальные вопросы ионной имплантации [Текст] : Материалы III всесоюзн. шк., 17-23 июня 1985 г., Алма-Ата / Отв. ред. Н.А.Добротин. – Алма-Ата : Наука, 1987. – 235с : ил.