Електронний каталог науково-технічної бібліотеки
Вінницького національного технічного університету
Класифікатори
маска
маска фоторезистивная
Документи:
Киреев, В. Ю.
Влияние аспектного отношения и площади вскрытия на параметры реактивного ионно-плазменного травления структур в монокремнии [Текст] / В. Ю. Киреев, В. Ю. Пашков, Р. Г. Хакимова // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2004. – № 3. – 28-35.
Інформаційно-пошукова система
'УФД/Бібліотека'