Електронний каталог науково-технічної бібліотеки
Вінницького національного технічного університету

ПРАВИЛА КОРИСТУВАННЯ ЕК
          Ефремов, А. М.
    Кинетика нейтральных частиц в плазме HCI и HBr в условиях низких давлений и высоких концентраций электронов [Текст] / А. М. Ефремов
    // Микроэлектроника. – 2016. – Т. 45, № 4. – С. 298-304.

   Проведено модельное исследование кинетики процессов образования и гибели нейтрльных частиц в плазме HCI и HBr в условиях, реализуемых в типовых промышленных реакторах травления.

  УДК 537.525


            


Є складовою частиною документа Микроэлектроника [Текст] / РАН. – 2016. – Т. 45, № 4.



Теми документа






Український Фондовий Дім Інформаційно-пошукова система
'УФД/Бібліотека'