Електронний каталог науково-технічної бібліотеки
Вінницького національного технічного університету
подложка
Підтеми:
Документи:
- Исследование биоадгезивных взаимодействий на золоте, кремнии и стекле методом атомно-силовой спектроскопии [Текст] / Т. А. Алексеева, И. С. Ермоленко, О. Н. Лазаренко [и др.] // Металлофизика и новейшие технологии. – 2009. – Т. 31, № 2. – С. 241-248.
- Алябьев, А. Ю. Практические аспекты создания перспективных МДП структур с применением технологии атомно-слоевого осаждения [Текст] / А. Ю. Алябьев, А. С. Коротков // Микроэлектроника. – 2016. – Т. 45, № 4. – С. 243-251.
- Антоненко, К. И. Компенсация неоднородностей температурного поля подложки в быстрых термических процессах [Текст] / К. И. Антоненко, А. Ю. Райнов // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2002. – № 1. – 28-34.
- Белик, В. Д. Влияние температуры подложки на процесс электроискрового лигирования, структуру и механические свойства покрытий I. Кинетика нагрева подложки в процессе электроискрового легирования [Текст] / В. Д. Белик, Р. В. Литвин, М. С. Ковальченко // Порошковая металлургия. – 2011. – № 11-12. – С. 29-36.
- Быков, Н. Ю. Моделирование процессов образования нанокластеров и их напыления на подложку при импульсной лазерной абляции металлов [Текст] / Н. Ю. Быков, Г. А. Лукьянов, Л. Ю. Николаева // Изв.ВУЗов.Приборостроение. – 2008. – 51, № 4. – 13-17.
- Влияние пераметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе "Алмаз" для синтеза углеродных алмазоподобных пленок [Текст] / В. В. Гладковский, Е. Г. Костин, Б. П. Полозов [и др.] // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2014. – № 5-6. – С. 39-45.
- Дранчук, С. Н. Массоперенос при жидкофазной эпитаксии двухслойных систем [Текст] / С. Н. Дранчук, В. А. Завадский, В. А. Мокрицкий // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2012. – № 5. – С. 48-51.
- Структура и состав слоев нитрида кремния, полученных в планарно-индукционном реакторе [Текст] / Ф. Н. Дульцев, В. В. Васильев, И. О. Парм, А. П. Соловьев // Изв.ВУЗов.Приборостроение. – 2004. – № 9. – 34-38.
- Ефремов, А. М. Кинетика нейтральных частиц в плазме HCI и HBr в условиях низких давлений и высоких концентраций электронов [Текст] / А. М. Ефремов // Микроэлектроника. – 2016. – Т. 45, № 4. – С. 298-304.
- Кондрашов, В. А. Влияние материала зонда на локальное анодное окисление подложек [Текст] / В. А. Кондрашов, В. К. Неволин // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2012. – № 6. – С. 80-82.
- Короткевич, А. В. Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек [Текст] / А. В. Короткевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 1999. – № 5-6. – 25-27.
- Кравченко, А. А. Исследование и разработка реактора эпитаксиального наращивания для индивидуальной обработки подложек [Текст] / А. А. Кравченко, А. И. Погалов // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2017. – Т. 21, № 3. – С. 211-219.
- Кумар, П. Носимые печатные антенны на гибкой подложке для беспроводных нательных сетей медицинского назначения (Обзор) [Текст] / П. Кумар, Т. Али, А. Шарма // Известия вузов. Радиоэлектроника. – 2021. – Т. 64, № 7. – С. 395-410.
- Лугин, А. Н. Об ограничение значений допускаемого отклонения и стабильности сопротивления тонкопленочных чип-резисторов [Текст] / А. Н. Лугин, М. М. Оземша // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2012. – № 1. – С. 32-37.
- Найда, Г. А. Технологические закономерности выращивания структур AlN и GaN на сапфире при использовании неорганических донорно-акцепторных комплексов [Текст] / Г. А. Найда, В. В. Смирнов // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2005. – № 3. – 7-13.
- Высокотемпературные сверхпроводящие пленки на гибких подложках для трансформатора магнитного потока [Текст] / Н. В. Порохов, Э. И. Левин, М. Л. Чухаркин [и др.] // Радиотехника и электроника. – 2012. – Т. 57, № 10. – С. 1128-1136.
- Напряженное состояние и кинематика при прокатке порошковых материалов на металлической подложке [Текст] / В. Ф. Потапкин, А. Н. Левкин, А. В. Сатонин [и др.] // Порошковая металлургия. – 2000. – 1/2(411). – С. 13-21.
- Получение эпитаксиальных слоев кадмий-цинк-теллур на подложках арсенида галлия (310) [Текст] / Д. Н. Придачин, А. К. Гутаковский, Ю. Г. Сидоров [et al.] // Изв.ВУЗов.Приборостроение. – 2004. – № 9. – 30-34.
- Спирин, В. Г. Перспективы развития тонкопленочных микросборок [Текст] / В. Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2005. – № 1. – 3-6.
- Зондовая установка на подложке для измерения S-параметров плоской мультенны в диапазоне 70–110 ГГц [Текст] / А. Ю. Сушко, М. М. Торрико, Р. С. Доннан [и др.] // Известия вузов. Радиоэлектроника. – 2021. – Т. 64, № 6. – С. 341-349.
- Тмошенков, С. П. Особенности формирования фоторезистивных пленок на подложках некруглой формы [Текст] / С. П. Тмошенков, В. В. Ануфриенко, Х. З. Мье // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2007. – № 6. – 71-74.
|
