| |
Термическая обработка частиц SiO2, Al2O3, BaO в воздушной и аргон-кислородной ВЧИ-плазме [Текст] / В. З. Петрова, Е. П. Прокопьев, С. П. Тимошенков, С. А. Дьячков
// Изв.ВУЗов.Электроника. – 2000. – № 2. – 12-20.
Рассмотрен процесс синтеза диэлектрического материала из механической смеси оксидов SiO2, Al2O3, BaO и последующего его осаждения в виде стекловидных слоев на подложках кремния в ВЧИ плазменной установке. |
