Розглянуто роботи по створенню сучасних методів полірування прецизійних поверхонь елементів електронної техніки та оптичних систем зі скла, оптичних і напівпровідникових кристалів. Описано механізм видалення матеріалу з оброблюваної поверхні під час полірування інструментом зі зв’язаним полірувальним порошком, при механічному поліруванні суспензіями полірувальних порошків та при хіміко-механічному поліруванні. Наведено результати дослідження механізму формування нанопрофілю оптичних поверхонь під час полірування та відмічено актуальність вивчення закономірностей утворення надгладеньких поверхонь при хіміко-механічному поліруванні.