| |
Лемешко, С. В.
Особенности процесса формирования диэлектрической модулированной по толщине маски на основе локального зондового окисления [Текст] / С. В. Лемешко, И. В. Сагунова, В. И. Шевяков
// Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2016. – Т. 21, № 5. – С. 475-478.
Описаны особенности формирования на поверхности твердых тел диэлектрической маски, модулированной по толщине, на основе локального зондового окисления. Показано, что это достигается за счет изменения параметров импульса напряжения в процессе сканирования по заданному рисунку окисляемой поверхности сверхтонкой пленки металла. |
