| |
Шумилов, А. С.
Моделирование травления высокоаспектных канавок в Si в плазме смеси Cl_2/Ar [Текст] / А. С. Шумилов, И. И. Амиров, В. Ф. Лукичев
// Микроэлектроника. – 2016. – Т. 45, № 3. – С. 177-189.
Представлена модель и результаты моделирования травления глубоких канавок в Si в плазме смеси Cl_2/Ar в зависимости от энергии падающих ионов Cl +, Ar+ с учетом переосажденгия удаляемых со дна канавки продуктов реакции. |
