| |
Влияние полимерной матрицы и фотогенератора кислоты на литографические свойства химически усиленного фоторезиста [Текст] / С. А. Булгакова, Д. А. Гурова, С. Д. Зайцев [и др.]
// Микроэлектроника. – 2014. – Т. 43, № 6. – С. 419-428.
Изучены резистивные композиции на основе тер-сополимеров изоборнилакрилата с метилметакрилатом и (мет)акриловой кислотой, синтезированных методом контролируемой радикальной полимеризации по механизму обратимой передачи цепи, и трифенилсульфонийтрифлата в качестве фоточувствительного катализатора. |
