| |
Жуков, А. А.
Влияние режимов фотолитографического цикла на величину отрицательного угла маски из позитивного фоторезиста [Текст] / А. А. Жуков, Е. Ю. Ильин, Н. Н. Герасименко
// Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2015. – Т. 20, № 4. – С. 440-442.
Разработана и эксперементально исследована технология формирования отрицательного угла наклона толстой фоторезистивной маски для применения во "взрывной" литографии и для электрохимического осаждения металлов. |
