| |
Васильев, В. Ю.
Низкотемпературное импульсное газофазное осаждение тонких слоев металлического рутения для микро- и макроэлектроники. Часть 5. Взаимосвязь закономерностей роста, структуры и свойств слоев рутения [Текст] / В. Ю. Васильев
// Микроэлектроника. – 2011. – Т. 40, № 6. – С. 441-452.
Рассмотрена взаимосвязь закономерностей роста, структуры и свойств слоев рутения, выращиваемых при импульсном осаждении из газовой фазы с участием комплексного карбонил-диенового прекурсора в качестве второго реагента. |
