Електронний каталог науково-технічної бібліотеки
Вінницького національного технічного університету

ПРАВИЛА КОРИСТУВАННЯ ЕК
          Получение эпитаксиальных слоев кадмий-цинк-теллур на подложках арсенида галлия (310) [Текст] / Д. Н. Придачин, А. К. Гутаковский, Ю. Г. Сидоров [et al.]
    // Изв.ВУЗов.Приборостроение. – 2004. – № 9. – 30-34.

   Методом молекулярно-лучевой эпитаксии выращивались слои кадмий-цинк-теллур на подложках арсенида галлия. Целью было установление возможности использования этих слоев в качестве согласованной подложки при росте пленок кадмий-ртуть-теллур

  УДК 621.793.162:548.52


            




Теми документа






Український Фондовий Дім Інформаційно-пошукова система
'УФД/Бібліотека'