Електронний каталог науково-технічної бібліотеки Вінницького національного технічного університету
литография
Підтеми:
Документи:
- Белокопытов, Г. В. Оптическая литография без маски [Текст] / Г. В. Белокопытов, Ю. В. Рыжикова // Микроэлектроника. – 2011. – Т. 40, № 6. – С. 453-467.
- Мощный источник света в экстремальном УФ диапазоне (13.5 нм) [Текст] / В. М. Борисов, Г. Н. Борисова, А. Ю. Виноходов [и др.] // Квантовая электроника. – 2010. – Т. 40, № 8. – С. 720-726.
- Влияние полимерной матрицы и фотогенератора кислоты на литографические свойства химически усиленного фоторезиста [Текст] / С. А. Булгакова, Д. А. Гурова, С. Д. Зайцев [и др.] // Микроэлектроника. – 2014. – Т. 43, № 6. – С. 419-428.
- Создание и исследование нанопористых пленок двуокиси титана методом импульсной интерференционной литографии [Текст] / Ю. К. Верёвкин, В. Н. Петряков, В. Н. Буренина [и др.] // Квантовая электроника. – 2010. – Т. 40, № 10. – С. 925-927.
- Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов [Текст] / А. Ю. Виноходов, В. М. Кривцун, А. А. Лаш [и др.] // Квантовая электроника. – 2016. – Т. 46, № 1. – С. 81-87.
- Поиск источника излучения на базе фотонно-кристаллического волокна для STED-литографии [Текст] / Д. А. Глубоков, В. В. Сычев, А. Г. Витухновский, А. Е. Корольков // Квантовая электроника. – 2013. – Т. 43, № 6. – С. 588-590.
- Жуков, А. А. Влияние режимов фотолитографического цикла на величину отрицательного угла маски из позитивного фоторезиста [Текст] / А. А. Жуков, Е. Ю. Ильин, Н. Н. Герасименко // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2015. – Т. 20, № 4. – С. 440-442.
- Формирование межэлементарной металлизации GaAs монолитных интегральных схем на основе меди [Текст] / С. В. Ишуткин, В. А. Кагадей, Е. В. Ерофеев, Е. В. Анищенко // Микроэлектроника. – 2015. – Т. 44, № 4. – С. 282-289.
- Нанолитграфия-наноимпринтинг [Текст] / И. Ш. Невлюдов, В. А. Палагин, Е. А. Фризюк, О. Г. Шинкаренко // Радиотехника. – 2007. – № 150. – 151-158.
- Овчинов, В. А. Разработка технологии ретуширования прозрачных дефектов фотошаблов на лазерной установке ЭМ-5001Б [Текст] / В. А. Овчинов // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2009. – № 4. – С. 25-28.
- Попов, В. К. Расчет и проектирование устройств электронной и ионной литографии [Текст] / В. К. Попов, С. Н. Ячменев. – М. : Радио и связь, 1985. – 128 с. : ил. – (Б-ка технолога радиоэлектронной аппаратуры).
- Шелаев, А. В. Использование ближнепольной оптической литографии для характеризации плазмонных антенн [Текст] / А. В. Шелаев, П. С. Дорожкин, В. А. Быков // Приборы и техника эксперимента. – 2016. – № 6. – С. 66-70.
- Энн, Стеффора Матшлер Заче разработчикам знать про литографию [Текст] / С. М. Энн // Электронные компоненты. – 2008. – № 1. – 32-37.
- Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов [Текст] / Дж. Р. Брюэр, Д.С. Гринич, Д.Р. Херриот и др.; Под ред. Дж. Р. Брюэра. – М. : Радио и связь, 1984. – 336с : ил.
|