Електронний каталог науково-технічної бібліотеки Вінницького національного технічного університету
травление плазмохимическое
Документи:
- Оптический мониторинг температуры подложки и скорости травления многослойных структур при плазмохимическом травлении [Текст] / П. В. Волков, А. В. Горюнов, А. Ю. Лукьянов [и др.] // Микроэлектроника. – 2011. – Т. 40, № 5. – С. 331-338.
- Высокочастотный реактор с асимметричными электродами для плазмохимического травления полупроводников [Текст] / С. В. Дудин, В. А. Лисовский, А. Н. Дахов, В. М. Плетнёв // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2011. – № 1-2. – С. 42-48.
- Дунаев, А. В. Обзор спектров излучения плазмы хлора, хлороводорода, аргона и водорода [Текст] / А. В. Дунаев // Микроэлектроника. – 2015. – Т. 44, № 3. – С, 202-206.
- Ефремов, А. М. Кинетика и режимы плазмохимического травления GaAs в условиях индукционного ВЧ разряда в CF_2Cl_2 [Текст] / А. М. Ефремов, Д. Б. Мурин, А. Е. Левенцов // Микроэлектроника. – 2014. – Т. 43, № 6. – С. 429-434.
- Экологические аспекты жидкостного и плазмохимического травления [Текст] / Г. Я. Красников, Н. В. Алексеев, В. В. Ячменев, С. А. Неустроев // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2001. – № 1. – 19-22.
- Федорович, О. А. Особенности плазмохимического травления кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей [Текст] / О. А. Федорович, М. П. Кругленко, Б. П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2009. – № 6. – С. 46-49.
|