Електронний каталог науково-технічної бібліотеки Вінницького національного технічного університету
тонкие пленки
Документи:
- Формирование микроскопических цветных оксидных точек на поверхности титановой фольги при воздействии лазерного излучения [Текст] / С. Б. Алексеев, В. М. Орловский, В. Ф. Тарасенко [et al.] // Квантовая электроника. – 2003. – 33, № 12. – 1101-1106.
- Архангельский, Ю. С. Применение тонких поглощающих пленок в измерительной технике СВЧ [Текст] / Ю. С. Архангельский, В. А. Коломейцев ; МВ ССО РСФСР. Саратовский политехн. ин-т. – Саратов : Изд-во Саратовского ун-та, 1975. – 208 с.
- Аномально большая нелинейность тонких пленок фталоцианина SnCl(2) при импульсном лазерном возбуждении [Текст] / А. А. Борщ, М. С. Бродин, А. Б. Вербицкий [et al.] // Квантовая электроника. – 2002. – 32, № 2. – 140-142.
- Валеева, И. К. Определение пластических свойств тонких пленок по данным индентирования [Текст] / И. К. Валеева, И. О. Горошко // Электронное моделирование. – 2007. – 29, № 2. – 115-121.
- Галкин, Н. Г. Формирование и свойства тонких пленок сплавов CrFeSi на Si(111) [Текст] / Н. Г. Галкин, А. В. Конченко, А. М. Маслов // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2002. – № 2. – 37-43.
- Оптические и фотоэлектрические свойства тонких пленок Mg2Si на Si(III) [Текст] / Н. Г. Галкин, А. В. Конченко, А. М. Маслов [et al.] // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2001. – № 6. – 7-13.
- Головяшкин, А. Н. Получение тонких пленок медно-цинковых сплавов методом электрического взрыва в вакууме [Текст] / А. Н. Головяшкин, Д. В. Лежнев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2001. – № 2. – 42-44.
- Способ измерения спектров комбинационного рассеяния тонких пленок [Текст] / Е. М. Дианов, Е. Б. Интюшин, В. В. Колташев [et al.] // Приборы и техника эксперимента. – 2004. – № 5. – 100-102.
- Драненко, А. С. Кристаллизация тонких аморфных пленок TiB(2) при нагреве в колонне электронографа [Текст] / А. С. Драненко, Л. А. Дворина // Порошковая металлургия. – 2007. – № 9/10. – 104-108.
- Евтух, А. А. Исследование туннелирования электронов и дырок через тонкие пленки двуокиси кремния [Текст] / А. А. Евтух // Український фізичний журнал. – 2001. – № 10. – 1087-1093.
- Козик, В. В. Структура и оптические свойства тонких пленок ZrO2, ZrJ2 - V2O3, ZrO2 - Fe2O3 [Текст] / В. В. Козик, А. М. Шульпеков, Л. П. Борило // Изв.ВУЗов.Физика. – 2002. – 45, № 12. – 77-79.
- Получение тонких пленок тантала с использованием метода магнитронного распыления [Текст] / В. А. Лузанов, А. С. Веденеев, В. В. Рыльков [и др.] // Радиотехника и электроника. – 2015. – Т. 60, № 12. – С. 1251-1253.
- Муранова, Г. А. Свойства пленок, полученных распылением мишеней ионным пучком [Текст] / Г. А. Муранова, Н. Н. Смирнов // Оптический журнал. – 2001. – № 4. – 53-59.
- Нагорный, А. Г. Измеритель мощности для установки высокочастотного катодного распыления [Текст] / А. Г. Нагорный, С. В. Колинько // Приборы и техника эксперимента. – 2003. – № 1. – 144-148.
- Попович, Н. И. Применения пленок широкозонного полупроводника ZnGa2S4 для просветления оптических элементов [Текст] / Н. И. Попович, Н. И. Довгошей, И. Э. Качер // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2001. – № 3. – С. 19-20.
- Светличный, А. М. Особенности получения тонких пленок SiO(2) методом быстрой термической обработки [Текст] / А. М. Светличный, О. А. Агеев, Д. А. Шляховой // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2001. – № 4-5. – 38-43.
- Свечников, В. Л. Анализ напряженного состояния пленок YBa2Cu3O7, содержащих дислокации [Текст] / В. Л. Свечников // Металлофизика и новейшие технологии. – 2001. – 23, № 10. – С. 1333-1341.
- Смирнов, Н. Н. Основные закономерности метода получения пленок распылением мишеней ионным пучком [Текст] / Н. Н. Смирнов // Оптический журнал. – 2001. – № 4. – 60-62.
- Строкань, Г. П. Двухкамерная установка для напыления тонких пленок в поперечном высокочастотном разряде [Текст] / Г. П. Строкань // Приборы и техника эксперимента. – 2003. – № 6. – 121-124.
- Суху, Р. Магнитные тонкие пленки [Текст] : пер. с англ. / Р. Суху ; под ред. Р. В. Телеснина. – Москва : Мир, 1967. – 424 с. – 1,94 р.
- Фелдман, Л. Основы анализа поверхности и тонких пленок [Текст] = Fundamentals of Surface and thin Film Analysis / Л. Фелдман, Д. Майер ; пер. с англ. В. А. Аркадьева и Л. И. Огнева ; под ред. В. В. Белошицкого. – М. : Мир, 1989. – 344 с. – ISBN 5-03-001017-3 : 3,70 р.
- Взрывная кристаллизация тонких пленок полупроводников при облучении y-квантами [Текст] / Е. Ф. Храмов, Г. В. Прохоров, Н. М. Пелихатый, А. К. Гнап // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2003. – № 2. – 58-60.
- Четвериков, Н. И. Методика определения распределения диаметров пор в тонких металлических пленках [Текст] / Н. И. Четвериков, И. Ф. Четверикова // Приборы и техника эксперимента. – 2003. – № 1. – 140-143.
- Изучения явления интерференции в тонких пленках [Текст] : Методические указания к лабораторным работам повышенной трудности по курсу "Физика" для всех специальностей / Сост. Т.Н. Николаева, В.П. Черкашин, С.В. Пальцун и др. – К. : КПИ, 1990. – 12с.
- Свойства стуктур металл-диэлектрик-полупроводник [Текст] / А.В.Ржанов, Т.Е.Ковалевская, И.Г.Неизвестный; Отв. ред. А.В.Ржанов. – М. : Наука, 1976. – 279 с.
- Технология тонких пленок [Текст] : Справочник: Пер. с англ. Т. 1 / Под ред. Л. Майссела. – М. : Сов. радио, 1977. – 662 с.
- Технология тонких пленок [Текст] : Справочник: Пер. с англ. Т. 2 / Под ред. Л. Майссела. – М. : Сов. радио, 1977. – 768 с.
|