| |
Особенности термического окисления кремния, обусловленные структурным несоответствием на межфазной границе [Текст] / В. И. Соколов, В. В. Плотников, А. М. Скворцов [et al.]
// Изв.ВУЗов.Электроника. – 2002. – № 5. – 17-21.
Обсуждено влияние скорости окисления на эволюцию дефектной структуры кристалла. Предложен метод стационарного окисления кремния для получения структур Si/SiO2 с малой плотностью дефектов |
