| |
Сичинский, Э. В.
Особенности глубокого травления кремния через диэлектрическую маску в реакторе трансформаторно-связанной плазмы [Текст] / Э. В. Сичинский
// Изв.ВУЗов.Электроника. – 2003. – № 1. – 93-94.
Плазменное травление представляет собой ключевую технологию при формировании УБИС |
