| |
Математическая модель неоднородности толщины эпитаксиального слоя кремния, полученного дихлорсилановым методом [Текст] / Е. С. Горнев, Н. А. Зайцев, В. В. Лукерьин [et al.]
// Изв.ВУЗов.Электроника. – 2002. – № 3. – 17-24.
Рассмотрена математическая модель неоднородности скорости роста кремниевых слоев в дихлорсилановом методе, основанный на кибернитической модели |
