|
Формирование нитридных слоев в различных материалах с помощью ионного синтеза [Текст] / Н. Н. Герасименко, В. Ю. Троицкий, М. Н. Павлюченко, К. К. Джаманбалин // Изв.ВУЗов.Электроника. – 2001. – № 4. – 19-24.
При определенных параметрах облучения, найденных в результате экспериментов, непосредственно в процессе ионной имплантации получены слои монокристаллического Si3N4 высокого структурного совершенства. |