| |
Удаление оксидных пленок излучением XeCl-лазера для дезактивации поверхностей [Текст] / М. Л. Сантис, Ф. Делапорт, В. Марин, О. Утеза
// Квантовая электроника. – 2000. – 30, № 6. – 495-500.
Основное внимание уделено очистке металлических окисленных поверхностей, являющихся типичными представителями поверхностей, загрязненных радионуклидами в процессе эксплуатации ядерных электростанций |
