| |
Гладковський, В. В.
Исследование влияние кислорода на скорость и анизотропию глубинного травления кремния в плазмохимическом реакторе с управляемым магнитным полем [Текст] / В. В. Гладковський, О. А. Федорович
// Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2017. – № 4-5. – С.40-44.
Разработан и оптимизирован процесс глубокого плазмохимического травления кремния в плазмохимическом реакторе с управляемым магнитным полем в смеси SF_6-O_2, что позволило протравить кремний на глубину 100 мкм с анизотропией 10 при использовании защитной никелевой маски толщиной 0,4 - 1,0 мкм. |
