| |
Ефремов, А. М.
Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в смесях HCL + Ar, H_2, O_2 и Cl_2 [Текст] / А. М. Ефремов, Д. Б. Мурин
// Микроэлектроника. – 2015. – Т. 44, № 5. – С. 338-345.
Проведено сравнительное исследование влияния начального состава бинарных смесей HCL + Ar, H_2, O_2 и Cl_2 на стационарные электрофизические параметры и состав плазмы тлеющего разряда постоянного тока. |
