| |
Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов [Текст] / А. Ю. Виноходов, В. М. Кривцун, А. А. Лаш [и др.]
// Квантовая электроника. – 2016. – Т. 46, № 1. – С. 81-87.
Исследованы характеристики источника лазерно-индуцированного излучения экстремального ультрафиолетового диапазона, которое получено в разряде между двумя струями жидкого олова, и продемонстрирована возможность создания на его основе источника ЭУФ излучения высокой яркости для использования в технологиях инспекции масок для проекционной ЭУФ литографии. |
