| |
Источник света с высокой яркостью излучения на длине волны 13.5 нм [Текст] / В. М. Борисов, К. Н. Кошелев, А. В. Прокофьев [и др.]
// Квантовая электроника. – 2014. – Т. 44, № 11. – С. 1077-1082.
Представлены результаты исследований по разработке высокояркостного источнка излучения экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) диапазона, предназначенного для использования в проекционной ЭУФ литографии, для инспекции литографических масок, в ЭУФ метрологии и др. |
