| |
Влияние распределения примеси в базе на фотоэлектрические свойства поверхностно-барьерных УФ-фотопиремников [Текст] / Ю. Н. Бобренко, В. Н. Комащенко, Н. В. Ярошенко [и др.]
// Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2012. – № 5. – С. 35-38.
Изучены спектральные, вольт-фарадные и вольт-амперные характеристики тонкопленочных поверхностно-барьерных структур на основе соединений A^2 B^6 с разным распределением концентрации носителей в области пространственного заряда. |
