| |
Слипченко, Н. И.
Исследование и моделирование электронных свойств аморфных пленок а-SI:H [Текст] / Н. И. Слипченко, В. А. Письменецкий, Н. В. Герасименко
// Радиотехника. – 2011. – № 166. – С. 205-213.
Приведены результаты исследований влияния базовых технологических факторов: температуры осаждения пленки, давление газовой смеси и скорости её прокачки через рабочий объём камеры на концентрацию водорода в осажденных аморфных пленках. Для аналитического описания исследованных зависимостей предложены аппроксимационные модели. |
