Електронний каталог науково-технічної бібліотеки
Вінницького національного технічного університету

ПРАВИЛА КОРИСТУВАННЯ ЕК
          Васильев, В. Ю.
    Низкотемпературное импульсное газофазное осаждение тонких слоев металлического рутения для микро- и макроэлектроники. Часть 5. Взаимосвязь закономерностей роста, структуры и свойств слоев рутения [Текст] / В. Ю. Васильев
    // Микроэлектроника. – 2011. – Т. 40, № 6. – С. 441-452.

   Рассмотрена взаимосвязь закономерностей роста, структуры и свойств слоев рутения, выращиваемых при импульсном осаждении из газовой фазы с участием комплексного карбонил-диенового прекурсора в качестве второго реагента.

  УДК 539.23


            


Є складовою частиною документа Микроэлектроника [Текст] / РАН. – 2011. – Т. 40, № 6.



Теми документа






Український Фондовий Дім Інформаційно-пошукова система
'УФД/Бібліотека'