| |
Высокочастотный реактор с асимметричными электродами для плазмохимического травления полупроводников [Текст] / С. В. Дудин, В. А. Лисовский, А. Н. Дахов, В. М. Плетнёв
// Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2011. – № 1-2. – С. 42-48.
Исследованы пространственное распределение параметров плазмы и однородность потоков ионов, направленного на обрабатываемую поверхность в плазмохимическом реакторе. |
