| |
Овчинников, В. А.
Технологические режимы поиска дефектов фотошаблонов на установке контроля топологии ЭМ-6029М [Текст] / В. А. Овчинников
// Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2009. – № 3. – С. 85-87.
Разработанный, технологический процесс поиска недопустимых дефектов и режимы оборудования полностью подтверждаются экспериментальными результатами контроля фотошаблонов и позволяют принять адекватное решение для определения степени критичности дефектов во избежание избыточной или недостаточной оценки качества фотошаблона в процессе его изготовления. |
