| |
Применение феррогранатовых эпитаксиальных структур в сверхвысокочастотной электронике [Текст] / С. И. Ющук, С. А. Юрьев, П. С. Костюк, В. И. Бондар
// Технология и конструирование в электронной аппаратуре. – 2005. – № 3. – 22-25.
Методом жидкофазной эпитаксии выращены монокристаллические пленки железо-иттриевого граната толщиной от единиц до 92 мкм. Разработанные волноводные структуры и резонаторы использованы для создания планарных СВЧ-фильтров и линий задержки |
